发明授权
- 专利标题： 高耐久性光催化剂薄膜以及使用该薄膜的表面具有光催化功能的构造物
- 专利标题（英）： High durable photocatalyst film and structure having surface exhibiting photocatalytic function
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申请号： CN03818428.1申请日： 2003-07-30
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公开(公告)号： CN100343044C公开(公告)日： 2007-10-17
- 发明人: 西川量藏 , 田中尚树 , 仲山典宏
- 申请人： 宇部日东化成株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 宇部日东化成株式会社
- 当前专利权人： 宇部日东化成株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 郭煜; 赵苏林
- 优先权： 223122/2002 2002.07.31 JP
- 国际申请： PCT/JP2003/009667 2003.07.30
- 国际公布： WO2004/011244 JA 2004.02.05
- 进入国家日期： 2005-01-31
- 主分类号： B32B7/02
- IPC分类号： B32B7/02
摘要：
本发明提供一种高耐久性光催化剂薄膜以及设置该高耐久性光催化剂薄膜而成的表面具有光催化功能的构造物。所述高耐久性光催化剂薄膜是在基材薄膜的一面，经由保护层设置光催化剂活性材料层的层合薄膜，其中，作为上述基材薄膜，使用在通过日光型耐候试验仪进行加速耐候性试验时显示特定性能的薄膜，同时作为保护层，使用有机-无机复合梯度膜，并且，对于该层合薄膜用日光型耐候试验仪进行加速耐候性试验时，显示特定的性能。
公开/授权文献
- CN1671546A 高耐久性光催化剂薄膜以及使用该薄膜的表面具有光催化功能的构造物 公开/授权日：2005-09-21
