发明授权
- 专利标题: 一种用于防辐射屏蔽间的防护门结构
- 专利标题(英): Guard gate structure in use between radiation shields
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申请号: CN200310117327.9申请日: 2003-12-10
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公开(公告)号: CN100363590C公开(公告)日: 2008-01-23
- 发明人: 李君利 , 邓艳丽 , 明申金 , 王兵
- 申请人: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
- 申请人地址: 北京市清华同方科技广场A座2907
- 专利权人: 清华大学,同方威视技术股份有限公司
- 当前专利权人: 清华大学,同方威视技术股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市清华同方科技广场A座2907
- 主分类号: E06B5/18
- IPC分类号: E06B5/18 ; G21F7/00
摘要:
一种用于防辐射屏蔽间的防护门结构,涉及辐射防护技术领域。本发明包括防护门和与屏蔽间围墙出口处连接的方形屏蔽柱。防护门的一侧端可与一方形屏蔽柱密闭对合,防护门的另一侧端设有可与另一方形屏蔽柱外侧面密闭对合的围板。或者是防护门的一侧端可与方形屏蔽柱密闭对合,防护门的另一侧端设有与屏蔽间围墙连接并可把其遮挡的拐墙。同现有技术相比,本发明可将防护门与屏蔽间围墙巧妙地搭接,有效地防止屏蔽间内的射线直接向外泄漏,同时提高防护门的使用寿命。
公开/授权文献
- CN1626766A 一种用于防辐射屏蔽间的防护门结构 公开/授权日:2005-06-15