发明授权

等离子体显示屏的制造方法
摘要:
本发明实现能够抑制由于附着在光掩模上的灰尘等在PDP的构造物中发生缺陷的PDP的制造方法,在同一个工艺中进行两次光刻法中的曝光,在第一次曝光与第二次曝光之间使光掩模(22)在曝光图形偏移的允许范围内移动,使光掩模(22)移动,与其移动前后相对应进行两次曝光,能够排除由附着在光掩模(22)上的灰尘(22b)遮挡曝光而成为未感光的区域(21a),由此,能够良好地进行感光性Ag膏膜(21)的图形曝光。
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