发明授权
- 专利标题： 曝光装置、曝光方法及设备制造方法
- 专利标题（英）： Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method
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申请号： CN200680001363.0申请日： 2006-06-30
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公开(公告)号： CN100526992C公开(公告)日： 2009-08-12
- 发明人: 新井诚义
- 申请人： 株式会社尼康
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 株式会社尼康
- 当前专利权人： 株式会社尼康
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 左一平
- 优先权： 194373/2005 2005.07.01 JP; 60/781,735 2006.03.14 US
- 国际申请： PCT/JP2006/313104 2006.06.30
- 国际公布： WO2007/004567 JA 2007.01.11
- 进入国家日期： 2007-06-04
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
曝光装置(10)包括：射出激光的激光装置(16)；存储有第1信息的存储器(51)，该第1信息表示形成在晶圆上的图案的线宽误差与从激光装置射出的激光的光谱特性之间的关系；以及主控制装置(50)，根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息，通过激光控制装置(16e)来控制激光的光谱带宽。主控制装置(50)根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息来执行例如抑制线宽误差之类的激光的光谱带宽控制。
公开/授权文献
- CN101080807A 曝光装置、曝光方法及设备制造方法、以及系统 公开/授权日：2007-11-28
IPC分类:
