发明授权
CN100545312C 一种印制电路蚀刻液
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种印制电路蚀刻液
- 专利标题(英): Printed circuit etching liquid
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申请号: CN200810045291.0申请日: 2008-01-29
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公开(公告)号: CN100545312C公开(公告)日: 2009-09-30
- 发明人: 何为 , 周国云 , 龙发明 , 何波 , 王守绪 , 袁正希 , 胡可 , 关健
- 申请人: 电子科技大学 , 珠海元盛电子科技股份有限公司
- 申请人地址: 四川省成都市建设北路二段4号
- 专利权人: 电子科技大学,珠海元盛电子科技股份有限公司
- 当前专利权人: 电子科技大学,珠海元盛电子科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 四川省成都市建设北路二段4号
- 主分类号: C23F1/18
- IPC分类号: C23F1/18
摘要:
本发明属于印制电路板制造技术领域。本发明提供了一种经济,实用,快速、高效和易于再生的印制电路蚀刻液。该蚀刻液的配方为:HNO3(5%~15%)、H2SO4(8%~20%)、Na2SO4(1%~6%)、添加剂0.01~0.2%,其中添加剂是含有如下一种或一种以上表面活性剂的复配剂:C10~C12脂肪醇聚氧乙烯醚磺基琥珀酸半酯二钠盐、脂肪醇聚氧丙烯聚氧乙烯醚、聚氧乙烯(20)失水三梨醇单月桂酸酯、烷基聚氧乙烯醚硫酸酯铵盐或钠盐、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸酯铵盐或钠盐、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚。采用本发明制造出印制电路侧蚀非常小,且蚀刻液再生容易,能较长时间的循环使用,废液处理容易,对环境的污染小。
公开/授权文献
- CN101225520A 一种印制电路蚀刻液 公开/授权日:2008-07-23
IPC分类: