发明授权
- 专利标题: 一种改进的适用于BaY2F8单晶体生长的温度梯度法及其装置
- 专利标题(英): Improved temperature gradient method for BaY2F8 monocrystal growing and device therefor
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申请号: CN200710151180.3申请日: 2007-12-21
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公开(公告)号: CN100552096C公开(公告)日: 2009-10-21
- 发明人: 阮永丰 , 张守超 , 李广慧 , 孙伟 , 李文润
- 申请人: 天津大学
- 申请人地址: 天津市南开区卫津路92号
- 专利权人: 天津大学
- 当前专利权人: 天津大学
- 当前专利权人地址: 天津市南开区卫津路92号
- 代理机构: 天津佳盟知识产权代理有限公司
- 代理商 侯力
- 主分类号: C30B29/12
- IPC分类号: C30B29/12 ; C30B11/00
摘要:
一种改进的适用于BaY2F8单晶体生长的温度梯度法、以及该方法使用的小锥角坩埚及相关单晶生长装置的改进。本发明提供的小锥角坩埚用高纯石墨制成,坩埚中部的放肩部分呈倒立的圆锥形,圆锥的顶角为25°~35°。该单晶生长装置包括一个如上所述的小锥角坩埚和其他改进的相关装置。其他相关装置的主要改进点在于,在钼皮保温桶的顶部开孔、及在氧化铝陶瓷板与钼制坩埚托之间留有不小于2cm的空隙。该改进的生长BaY2F8单晶体的温度梯度法的要点是:在不低于6℃/mm的轴向温度梯度下,以使得晶体生长速度不高于1.8mm/小时的降温速率进行降温并生长晶体。本发明方法也适合各类掺杂的BaY2F8单晶体的生长。
公开/授权文献
- CN101275272A 一种改进的适用于BaY2F8单晶体生长的温度梯度法及其装置 公开/授权日:2008-10-01