发明授权
CN100580881C 氮化物半导体装置及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 氮化物半导体装置及其制造方法
- 专利标题(英): Nitride semiconductor device and method for manufacturing same
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申请号: CN200480000273.0申请日: 2004-02-19
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公开(公告)号: CN100580881C公开(公告)日: 2010-01-13
- 发明人: 京野孝史 , 上野昌纪
- 申请人: 住友电气工业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人: 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 程金山
- 优先权: 057983/2003 2003.03.05 JP
- 国际申请: PCT/JP2004/001944 2004.02.19
- 国际公布: WO2004/079803 JA 2004.09.16
- 进入国家日期: 2004-11-26
- 主分类号: H01L21/205
- IPC分类号: H01L21/205 ; H01L21/31
摘要:
本发明提供了一种制造方法,其易于生产包含具有出色平直度和结晶性的外延膜的氮化物-基半导体装置,并使得通过这种方法制造的氮化物-基半导体装置是可利用的。氮化物半导体装置在半导体衬底上形成,半导体衬底是一种包含第3B族元素及氮的化合物,此第3B族元素适合于与氮形成化合物,制造氮化物半导体装置的方法包括将半导体衬底(1)加热到膜-沉积温度、给衬底提供包含第3B族元素源气体和氮源气体的膜-沉积气体、及在半导体衬底上外延生长薄膜(2)的步骤,薄膜(2)是包含第3B族元素和氮的化合物;该方法在外延生长步骤之前还提供有将半导体衬底加热到预处理温度的步骤,以清洁半导体衬底表面,该预处理温度低于膜-沉积温度。
公开/授权文献
- CN1698184A 氮化物半导体装置及其制造方法 公开/授权日:2005-11-16