Invention Grant
CN100582044C 用于生产具有高折射指数的光学层的蒸汽沉积材料
失效 - 权利终止
- Patent Title: 用于生产具有高折射指数的光学层的蒸汽沉积材料
- Patent Title (English): Vaporizing deposition material for producing highly refractive optical layers
-
Application No.: CN200480004721.4Application Date: 2004-01-23
-
Publication No.: CN100582044CPublication Date: 2010-01-20
- Inventor: M·弗里兹 , R·多姆布罗斯克 , U·安瑟斯
- Applicant: 默克专利股份有限公司
- Applicant Address: 德国达姆施塔特
- Assignee: 默克专利股份有限公司
- Current Assignee: 默克专利股份有限公司
- Current Assignee Address: 德国达姆施塔特
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 任宗华
- Priority: 10307095.8 2003.02.19 DE
- International Application: PCT/EP2004/000554 2004.01.23
- International Announcement: WO2004/074200 DE 2004.09.02
- Date entered country: 2005-08-19
- Main IPC: C03C17/245
- IPC: C03C17/245
Abstract:
本发明涉及用于生产高折射指数的光学层的蒸发材料，该材料包括按照4∶1到1∶4的摩尔比率的二氧化钛和氧化镱。本发明还涉及生产它的方法和它的用途。
Public/Granted literature
- CN1751001A 用于生产具有高折射指数的光学层的蒸汽沉积材料 Public/Granted day:2006-03-22
Information query
