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CN100586901C 氧化镧掺杂氧化钇坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法 失效 - 权利终止

氧化镧掺杂氧化钇坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法
摘要：
本发明公开了一种氧化镧掺杂氧化钇坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化镧掺杂氧化钇坩埚的成分为每10g的氧化钇Y2O3中掺杂有0.2～1.2g的氧化镧。在用于热压烧结的氧化钇Y2O3粒径为0.01～20μm，氧化镧La2O3粒径为0.01～20μm。本发明氧化镧掺杂氧化钇坩埚使用温度为1600～2000℃，且在该温度环境下作为真空熔炼的器具，坩埚内表面未参与活性金属或合金的反应，从而提高了熔体的纯净度。
摘要（英）：

The present invention discloses an yttrim oxide doping lanthanum oxide crucible and a method adopting the hot pressing sintering crucible, the component of the yttrium oxide doping lanthanum oxide isthat the lanthanum oxide with 0.2-1.2g is doped in each 10g of yttrium oxide Y2O3. The grain diameter of the yttrim oxide Y2O3 for hot pressing sintering is 0.01-20 mu m, and the grain diameter of lanthanum oxide La2O3 is 0.01-20 mu m. The using temperature of the yttrium oxide doping lanthanum oxide crucible of the invention is 1600-2000 DEG C, and the crucible is taken as the apparatus of vacuummelting in the temperature surrounding, the inner surface of the crucible does not take part in the reaction of the active metal or alloy thereby increasing the purity of the flux.

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