发明授权
CN100587987C 化合物半导体晶片、发光二极管及其制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 化合物半导体晶片、发光二极管及其制备方法
- 专利标题(英): Compound semiconductor wafer, light emitting diode and manufacturing method thereof
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申请号: CN200810109052.7申请日: 2008-05-23
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公开(公告)号: CN100587987C公开(公告)日: 2010-02-03
- 发明人: 高桥健
- 申请人: 日立电线株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日立电线株式会社
- 当前专利权人: 日立电线株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 钟晶
- 优先权: 2007-137765 2007.05.24 JP
- 主分类号: H01L33/00
- IPC分类号: H01L33/00
摘要:
本发明涉及化合物半导体晶片、发光二极管及其制备方法。所述发光二极管包括含有发光层(22)的化合物半导体晶体层(2)和通过金属层(5)被粘结到晶体层(2)的导电基底(6)。所述金属层(5)包括在所述化合物半导体晶体层(2)的一个主要表面上形成的第一金属层(51)、在所述导电基底(6)的一个主要表面上形成的第二金属层(53)以及在第一金属层(51)和第二金属层(53)之间形成的多孔金属微粒层,所述多孔金属微粒层包含平均直径为1nm~100nm且被互相粘结的金属微粒。
公开/授权文献
- CN101312229A 化合物半导体晶片、发光二极管及其制备方法 公开/授权日:2008-11-26
IPC分类: