用于热敏性中等尺度沉积的激光处理
Abstract:
教导了用于无掩模中等尺度的材料沉积(M3DTM)处理的方法和装置,其使用超声换能器或气动喷雾器(22)以产生气溶胶,其流通过入口(20)引向基片,该流任选地通过有效冲击器(24)以减小气体体积或旁路有效冲击器(24),通过可去除溶剂或修改粘性的加热器组件(16),到达流头(12)。具有机械开闭器(28)的材料开闭器组件(26)被设置在流头处,并且鞘气通过入口(18)进入以在从流头出去前包围气溶胶,所述的鞘气被用于沉积在基片上,在此利用来自激光器模块(10)的光束,其在基片上接受处理,以在大于或等于基片的损坏阈值下加热。
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