本发明的目的在于提供一种以成本有效的方式得到具有在5-100nm范围内的周期的周期性和准周期性图形的系统和方法。当然，该系统对周期在该范围之外的图形也具有一般适用性。该目的通过本发明来实现，本发明公开了一种用于通过使用干涉光刻技术在样品上产生周期性和/或准周期性图形的系统，该系统包括：a)光子源；b)具有与所希望的图形相应的周期性或准周期性图形的掩模；所述掩模被设置在与光子源的第一距离处或被设置在例如瞄准仪、收集器、反射镜、透镜、滤光器和光阑的中间光学元件之后；c)用于保持样品的样品保持器在光子源的相对侧被设置在与掩模的第二距离处，由此该第二距离被选择成在这样的范围内，在该范围内强度分布基本上是固定的和距离不变的，或者第二距离被改变以便在样品表面上得到所希望的平均强度分布。