使用溶液基前体的原子层沉积方法和设备
摘要:
提供了溶液稳定和输送技术与特殊的ALD操作的独特组合。使用溶解在溶剂中的宽范围的低挥发性固体ALD前体。不稳定的溶质可在溶液中稳定,并且所有溶液都可在室温下输送。在溶液蒸发之后,汽相前体和溶剂被脉冲输送到沉积室中以确保真实的ALD膜生长。
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