发明公开
CN101063196A 使用溶液基前体的原子层沉积方法和设备
失效 - 权利终止
- 专利标题: 使用溶液基前体的原子层沉积方法和设备
- 专利标题(英): Method and apparatus for using solution based precursors for atomic layer deposition
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申请号: CN200610077801.3申请日: 2006-04-29
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公开(公告)号: CN101063196A公开(公告)日: 2007-10-31
- 发明人: C·马 , Q·M·王 , P·J·赫尔亚 , R·霍格尔
- 申请人: 波克股份有限公司
- 申请人地址: 美国新泽西州
- 专利权人: 波克股份有限公司
- 当前专利权人: 波克股份有限公司
- 当前专利权人地址: 美国新泽西州
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 沙永生
- 优先权: 60/676,491 2005.04.29 US; 11/400,904 2006.04.10 US
- 主分类号: C23C16/448
- IPC分类号: C23C16/448 ; C23C16/30 ; C23C16/52 ; H01L21/205
摘要:
提供了溶液稳定和输送技术与特殊的ALD操作的独特组合。使用溶解在溶剂中的宽范围的低挥发性固体ALD前体。不稳定的溶质可在溶液中稳定,并且所有溶液都可在室温下输送。在溶液蒸发之后,汽相前体和溶剂被脉冲输送到沉积室中以确保真实的ALD膜生长。
公开/授权文献
- CN101063196B 使用溶液基前体的原子层沉积方法和设备 公开/授权日:2010-08-25