Invention Publication
- Patent Title: 跟踪并标记具有缺陷的试样
- Patent Title (English): Tracing and marking sample with defect
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Application No.: CN200580039094.2Application Date: 2005-11-14
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Publication No.: CN101076805APublication Date: 2007-11-21
- Inventor: M·泰勒 , R·W·科尔比 , J·W·莱昂那德 , L·M·多森 , D·A·瓦特 , C·E·希尔 , L·H·坎贝尔
- Applicant: 电子科学工业公司
- Applicant Address: 美国俄勒冈州
- Assignee: 电子科学工业公司
- Current Assignee: 电子科学工业公司
- Current Assignee Address: 美国俄勒冈州
- Agency: 北京纪凯知识产权代理有限公司
- Agent 赵蓉民; 薛峰
- Priority: 60/628,278 2004.11.15 US
- International Application: PCT/US2005/041218 2005.11.14
- International Announcement: WO2006/053300 EN 2006.05.18
- Date entered country: 2007-05-15
- Main IPC: G06F19/00
- IPC: G06F19/00

Abstract:
一种方法和系统(10),其提高了在靶材的激光加工中加工的试样产量,其中所述靶材包括共衬底上形成的多个试样。优选实施例实现了一个能在激光加工系统中存储一列有缺陷试样的特征,所述有缺陷的试样在某种程度上在激光加工期间已经受到了错误的影响。一旦已经完全加工所述共衬底,系统警示操作员不适当加工试样的数量,并给予操作员运行软件程序(12)的机会,在一个优选实施例中,该软件程序使用激光在每个没有适当加工的试样的顶面上划上标记。
Public/Granted literature
- CN101076805B 跟踪并标记具有缺陷的试样 Public/Granted day:2010-10-27
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