发明授权
- 专利标题: 表面波激发等离子体产生装置以及表面波激发等离子体处理装置
- 专利标题(英): Surface wave excitation plasma generator and surface wave excitation plasma processing system
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申请号: CN200680001441.7申请日: 2006-04-20
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公开(公告)号: CN101091420B公开(公告)日: 2011-02-23
- 发明人: 铃木正康
- 申请人: 株式会社岛津制作所
- 申请人地址: 日本京都府
- 专利权人: 株式会社岛津制作所
- 当前专利权人: 株式会社岛津制作所
- 当前专利权人地址: 日本京都府
- 代理机构: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司
- 代理商 寿宁
- 优先权: 128079/2005 2005.04.26 JP
- 国际申请: PCT/JP2006/308329 2006.04.20
- 国际公布: WO2006/118042 JA 2006.11.09
- 进入国家日期: 2007-06-13
- 主分类号: H05H1/46
- IPC分类号: H05H1/46 ; H01L21/302 ; C23C16/511 ; H01L21/31 ; H01L21/205
摘要:
本发明可有效地产生表面波激发等离子体。表面波激发等离子体产生装置(10)包括环状导波管(2)以及电介质管(3)。环状导波管(2)包括导入口(2a)、终端板(2b)以及底板(2c),其中,所述导入口(2a)用来导入微波(M),所述终端板(2b)用来反射被导入的在管内传播的微波(M),所述底板(2c)上以预定的间隔形成有槽孔天线(2d)。当微波(M)的管内波长为λg时,将从底板(2c)上的位置(b)开始经过位置(c、d、e)直到位置(f)为止的长度,即,环状导波管(2)的周长π×D1设为2λg,并且位置(b、c、d、e、f)之间隔开λg/2的间隔。由于槽孔天线(2d)配置在位置(c)及位置(e)两处,因此所述2个槽孔天线(2d)的间隔等于管内波长λg。
公开/授权文献
- CN101091420A 表面波激发等离子体产生装置以及表面波激发等离子体处理装置 公开/授权日:2007-12-19
IPC分类: