Invention Grant
- Patent Title: 表面波激发等离子体产生装置以及表面波激发等离子体处理装置
- Patent Title (English): Surface wave excitation plasma generator and surface wave excitation plasma processing system
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Application No.: CN200680001441.7Application Date: 2006-04-20
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Publication No.: CN101091420BPublication Date: 2011-02-23
- Inventor: 铃木正康
- Applicant: 株式会社岛津制作所
- Applicant Address: 日本京都府
- Assignee: 株式会社岛津制作所
- Current Assignee: 株式会社岛津制作所
- Current Assignee Address: 日本京都府
- Agency: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司
- Agent 寿宁
- Priority: 128079/2005 2005.04.26 JP
- International Application: PCT/JP2006/308329 2006.04.20
- International Announcement: WO2006/118042 JA 2006.11.09
- Date entered country: 2007-06-13
- Main IPC: H05H1/46
- IPC: H05H1/46 ; H01L21/302 ; C23C16/511 ; H01L21/31 ; H01L21/205

Abstract:
本发明可有效地产生表面波激发等离子体。表面波激发等离子体产生装置(10)包括环状导波管(2)以及电介质管(3)。环状导波管(2)包括导入口(2a)、终端板(2b)以及底板(2c),其中,所述导入口(2a)用来导入微波(M),所述终端板(2b)用来反射被导入的在管内传播的微波(M),所述底板(2c)上以预定的间隔形成有槽孔天线(2d)。当微波(M)的管内波长为λg时,将从底板(2c)上的位置(b)开始经过位置(c、d、e)直到位置(f)为止的长度,即,环状导波管(2)的周长π×D1设为2λg,并且位置(b、c、d、e、f)之间隔开λg/2的间隔。由于槽孔天线(2d)配置在位置(c)及位置(e)两处,因此所述2个槽孔天线(2d)的间隔等于管内波长λg。
Public/Granted literature
- CN101091420A 表面波激发等离子体产生装置以及表面波激发等离子体处理装置 Public/Granted day:2007-12-19
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