发明公开
CN101095221A 半导体集成电路器件的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 半导体集成电路器件的制造方法
- 专利标题(英): Process for fabricating semiconductor integrated circuit device
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申请号: CN200480043269.2申请日: 2004-06-09
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公开(公告)号: CN101095221A公开(公告)日: 2007-12-26
- 发明人: 神田信 , 渡边孝司 , 广田大介
- 申请人: 株式会社瑞萨科技
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社瑞萨科技
- 当前专利权人: 株式会社瑞萨科技
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 王茂华
- 国际申请: PCT/JP2004/008414 2004.06.09
- 国际公布: WO2005/122238 JA 2005.12.22
- 进入国家日期: 2006-12-08
- 主分类号: H01L21/66
- IPC分类号: H01L21/66
摘要:
当使用装备有薄膜探针的探针卡执行探针标记检查时,视觉检查系统(51)从视觉上检查检查对象即晶片的主表面的外观,按照在晶片平面中的相应芯片的排列次序,将检查结果,例如在晶片的主表面上粘附了灰尘微粒或晶片主表面上的凸点电极的形状异常,收集为晶片图数据。通过服务器(52)将晶片图数据传送到探针检查系统(53),其中根据晶片图数据,对于其中没有通过视觉检查的芯片,省略探针标记检查,而对于其中通过了视觉检查的其他芯片,执行探针标记检查。
公开/授权文献
- CN100499056C 半导体集成电路器件的制造方法 公开/授权日:2009-06-10