Invention Grant
CN101104791B 铈系研磨材料及其原料
失效 - 权利终止
- Patent Title: 铈系研磨材料及其原料
- Patent Title (English): Cerium based polishing material and raw materials therefor
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Application No.: CN200710142719.9Application Date: 2004-03-29
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Publication No.: CN101104791BPublication Date: 2010-06-16
- Inventor: 小林大作 , 内野义嗣 , 山崎秀彦
- Applicant: 三井金属鉱业株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 三井金属鉱业株式会社
- Current Assignee: 三井金属鉱业株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 上海专利商标事务所有限公司
- Agent 徐迅
- Priority: 2003-187281 2003.06.30 JP; 2003-187280 2003.06.30 JP
- The original application number of the division: 2004800012215 2004.03.29
- Main IPC: C09K3/14
- IPC: C09K3/14

Abstract:
本发明提供具有发生损伤更少等优良研磨特性、研磨速度更高的铈系研磨材料。该铈系研磨材料作为稀土类氧化物至少含有氧化铈(CeO2)、氧化镧(La2O3)及氧化钕(Nd2O3),并含有氟元素(F),其总稀土类氧化物换算重量(TREO)为90wt%以上,同时,TREO中氧化铈所占重量比(CeO2/TREO)为50wt%~65wt%,并且TREO中氧化钕所占重量比(Nd2O3/TREO)为10wt%~16wt%。使用这样的铈系研磨材料能迅速得到研磨损伤发生较少的研磨面。
Public/Granted literature
- CN101104791A 铈系研磨材料及其原料 Public/Granted day:2008-01-16
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