发明授权
CN101158539B 旋转清洗干式槽
失效 - 权利终止
- 专利标题: 旋转清洗干式槽
- 专利标题(英): Rotating cleaning dry-type groove
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申请号: CN200610116927.7申请日: 2006-10-08
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公开(公告)号: CN101158539B公开(公告)日: 2010-10-20
- 发明人: 江志峯 , 黄文忠
- 申请人: 上海宏力半导体制造有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号
- 专利权人: 上海宏力半导体制造有限公司
- 当前专利权人: 上海宏力半导体制造有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号
- 代理机构: 上海光华专利事务所
- 代理商 余明伟
- 主分类号: H01L21/304
- IPC分类号: H01L21/304
摘要:
本发明提供一种旋转清洗干式槽,其包括一用以承载固定住一晶片的垂直晶片载具和一平行于垂直晶片载具的上盖,上盖边缘部分的弯折部是朝向垂直晶片载具方向倾斜且远离垂直晶片载具方向,当旋转清洗干燥过程中,洗涤水会沿着倾斜流向流出而不会累积在弯折部,且于旋转清洗干燥过程后,开关上盖时洗涤水也不会滴落至晶片表面而形成水痕污染,改善了洗净的效率与洁净度,进而达到降低成本、提升工艺成品率以及组件质量的功效。
公开/授权文献
- CN101158539A 旋转清洗干式槽 公开/授权日:2008-04-09
IPC分类: