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旋转清洗干式槽
摘要:
本发明提供一种旋转清洗干式槽,其包括一用以承载固定住一晶片的垂直晶片载具和一平行于垂直晶片载具的上盖,上盖边缘部分的弯折部是朝向垂直晶片载具方向倾斜且远离垂直晶片载具方向,当旋转清洗干燥过程中,洗涤水会沿着倾斜流向流出而不会累积在弯折部,且于旋转清洗干燥过程后,开关上盖时洗涤水也不会滴落至晶片表面而形成水痕污染,改善了洗净的效率与洁净度,进而达到降低成本、提升工艺成品率以及组件质量的功效。
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