发明授权
- 专利标题: 真空成膜装置以及真空成膜方法
- 专利标题(英): Vacuum film forming apparatus and vacuum film forming method
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申请号: CN200680033242.4申请日: 2006-09-11
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公开(公告)号: CN101263242B公开(公告)日: 2010-11-24
- 发明人: 梅泽隆男 , 北爪敦夫 , 高野博史 , 尾山总美
- 申请人: 株式会社美姿把
- 申请人地址: 日本群马县
- 专利权人: 株式会社美姿把
- 当前专利权人: 株式会社美姿把
- 当前专利权人地址: 日本群马县
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 何腾云
- 优先权: 270222/2005 2005.09.16 JP
- 国际申请: PCT/JP2006/317954 2006.09.11
- 国际公布: WO2007/032297 JA 2007.03.22
- 进入国家日期: 2008-03-11
- 主分类号: C23C14/50
- IPC分类号: C23C14/50
摘要:
在将设置有工件的工件室侧的第二模具与设置有用于进行真空成膜的目标的目标室侧的第一模具进行合模,在上述工件上进行真空成膜的情况下,可缩短真空成膜工序所需的时间、降低成本,在设置了用于进行真空成膜的目标的目标室(7b)侧的成膜用模具(7a)的开口端设置挡板装置(13),该挡板装置(13)具有开设了连通孔(19a、20a)的第一、第二支撑板(19、20),和设置在两板(19、20)之间、对上述连通孔(19a、20a)进行开闭的挡板(17),在上述合模后开放挡板(17),在成模(2a)后,在脱模前的阶段封闭挡板(17)。
公开/授权文献
- CN101263242A 真空成膜装置以及真空成膜方法 公开/授权日:2008-09-10
IPC分类: