发明授权
- 专利标题: 分解图案的方法、器件制造方法及产生掩模的方法
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申请号: CN200710199970.9申请日: 2007-09-13
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公开(公告)号: CN101271483B公开(公告)日: 2012-02-22
- 发明人: 朴正哲
- 申请人: ASML蒙片工具有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML蒙片工具有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王新华
- 优先权: 60/844,079 2006.09.13 US
- 主分类号: G06F17/50
- IPC分类号: G06F17/50
摘要:
公开了一种分解包含待印刷在晶片上的特征的目标图案的方法,包括步骤:(a)限定表示在内半径中为正值和在外半径中为负值的函数的核;(b)使用多个像素限定所述特征;(c)在多个像素的第一像素上设置所述核;(d)确定所述核在所述多个像素中每个像素的位置处的值,存储所述多个像素中每个像素的所述值,以限定所述多个像素中每个像素的像素值;(e)将与所述多个像素中的指定像素有关的预存储值同步骤(d)中确定的该指定像素的所述像素值相加;(f)在所述多个像素中的另一像素上设置所述核,重复步骤(d)-(f)直至所述多个像素中的每个像素被处理;和(g)根据该指定像素的像素值确定在第一图案或第二图案中所述像素的位置。
公开/授权文献
- CN101271483A 根据特征间距进行图案分解的方法 公开/授权日:2008-09-24