发明授权
CN101277899B 氢氟酸生成装置及氢氟酸生成方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 氢氟酸生成装置及氢氟酸生成方法
- 专利标题(英): Hydrofluoric acid production apparatus and hydrofluoric acid production method
-
申请号: CN200680020302.9申请日: 2006-06-29
-
公开(公告)号: CN101277899B公开(公告)日: 2011-02-02
- 发明人: 仲喜治一
- 申请人: 日本顶点服务有限会社 , 堺钢板株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 日本顶点服务有限会社,堺钢板株式会社
- 当前专利权人: 日本顶点株式会社,堺钢板株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 蒋亭; 苗堃
- 优先权: 191784/2005 2005.06.30 JP
- 国际申请: PCT/JP2006/313008 2006.06.29
- 国际公布: WO2007/004516 JA 2007.01.11
- 进入国家日期: 2007-12-07
- 主分类号: C01B7/19
- IPC分类号: C01B7/19 ; B01D3/00 ; C02F1/28
摘要:
本发明的课题是:利用以活性氧化铝及二氧化硅作为主成分的无机陶瓷系吸附剂,从含有氟的排水、废液中将氟进行吸附处理,并使用吸附处理后的吸附剂来生成氢氟酸的情况下,提高氢氟酸的生成效率,并且抑制吸附剂劣化。因此,本发明提供一种氢氟酸生成装置,其利用以活性氧化铝及二氧化硅作为主成分的陶瓷系吸附剂,从含有氟离子的氟化合物或氟混合物中将氟离子进行吸附处理,并使用吸附处理后的吸附剂来生成氢氟酸;且其具备蒸馏机构及冷却机构,所述蒸馏机构使上述吸附剂与强碱或强酸反应,并且添加结晶性二氧化硅来生成六氟硅酸气体,所述冷却机构冷却由上述蒸馏机构所生成的六氟硅酸气体,并进行水解来生成氢氟酸。
公开/授权文献
- CN101277899A 氢氟酸生成装置及氢氟酸生成方法 公开/授权日:2008-10-01