发明公开
- 专利标题： 光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法
- 专利标题（英）： Photoresist composition and method for forming photoresist pattern using the same
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申请号： CN200810091113.1申请日： 2008-04-02
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公开(公告)号： CN101281369A公开(公告)日： 2008-10-08
- 发明人: 朴廷敏 , 郑斗喜 , 李羲国 , 尹赫敏 , 丘冀赫
- 申请人： 三星电子株式会社 , 东进瑟弥侃株式会社
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 三星电子株式会社,东进瑟弥侃株式会社
- 当前专利权人： 三星显示有限公司,东进瑟弥侃株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 宋莉
- 优先权： 32371/07 2007.04.02 KR
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/20
摘要：
本发明涉及光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法，该光刻胶组合物包括约0.5－约20重量份的光致产酸剂、约10－约70重量份的含有羟基的酚醛清漆树脂、约1－约40重量份的交联剂、以及约10－约150重量份的溶剂，其中该交联剂包括烷氧基甲基三聚氰胺化合物。
公开/授权文献
- CN101281369B 光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 公开/授权日：2012-01-11