发明授权
- 专利标题: 用于检测电子束的暴露的导体件系统和方法
- 专利标题(英): Exposed conductor system and method for sensing an electron beam
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申请号: CN200680039939.2申请日: 2006-10-10
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公开(公告)号: CN101297218B公开(公告)日: 2012-01-25
- 发明人: 拉尔斯·奥克·内斯隆德 , 汉斯·哈尔斯坦迪斯 , 安德斯·克里斯蒂安松 , 安德斯·赫德斯·奥尔松
- 申请人: 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司
- 申请人地址: 瑞士普利
- 专利权人: 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司
- 当前专利权人: 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司
- 当前专利权人地址: 瑞士普利
- 代理机构: 上海胜康律师事务所
- 代理商 周文强; 李献忠
- 优先权: 11/258,212 2005.10.26 US
- 国际申请: PCT/SE2006/001146 2006.10.10
- 国际公布: WO2007/050007 EN 2007.05.03
- 进入国家日期: 2008-04-25
- 主分类号: G01T1/18
- IPC分类号: G01T1/18 ; H01J47/14
摘要:
披露了一种用于检测沿路径产生的电子束(106)强度的检测器(104)。一种示例性的检测器包括连接到支撑件(112)的暴露的导体件(105),该支撑件(112)配置为将该暴露的导体件(105)设置于电子束(106)路径内;与该暴露的导体件(105)隔离的接地导体件(107),该导体件(107)部分围绕该暴露的导体件(105),以形成等离子罩,该等离子罩具有窗口,该窗口至少设置在该电子束的方向上。
公开/授权文献
- CN101297218A 用于检测电子束的暴露的导体件系统和方法 公开/授权日:2008-10-29