• 专利标题: 类金刚石薄膜制备方法
  • 专利标题(英): Diamond-like film preparation method
  • 申请号: CN200810122635.3
    申请日: 2008-06-17
  • 公开(公告)号: CN101319324A
    公开(公告)日: 2008-12-10
  • 发明人: 庄严
  • 申请人: 庄严
  • 申请人地址: 江苏省姜堰市南环西路姜堰市高新技术创业中心
  • 专利权人: 庄严
  • 当前专利权人: 庄严
  • 当前专利权人地址: 江苏省姜堰市南环西路姜堰市高新技术创业中心
  • 主分类号: C23C28/00
  • IPC分类号: C23C28/00 C23C14/06 C23C16/26
类金刚石薄膜制备方法
摘要:
本发明公开一种类金刚石薄膜(DLC)制备方法,属于金属或非金属表面改性处理的技术领域。该方法采用以石墨为阴极电极的脉冲电弧放电和分解离化碳氢化合物气体的混合物理化学气相沉积法在工件表面进行DLC沉积,主要操作步骤是:超声波清洗、抽真空、离子清洗、DLC沉积,所述离子清洗中通入氩气,DLC沉积中电弧放电脉冲频率为5~35Hz,电压为200~400V,通入碳氢化合物气体优选甲烷、乙烷或丙烷。本发明通过特殊脉冲电弧放电,形成高速、高能量的碳等离子束对通入的碳氢化合物气体分子产生碰撞分解离化,增加碳离子密度,增强绕射性,从而提高DLC沉积速度,增加其附着力,减少内应力,提高其精度和性能。
公开/授权文献
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