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发明授权
CN101331248B 清洗装置及镀膜料片制造装置 失效 - 权利终止

  • 专利标题： 清洗装置及镀膜料片制造装置
  • 专利标题（英）： Washing device and equipment for manufacturing film with plated coating
  • 申请号： CN200780000756.4
    申请日： 2007-03-20
  • 公开(公告)号： CN101331248B
    公开(公告)日： 2010-11-03
  • 发明人: 斋藤浩一
  • 申请人： 富士胶片株式会社
  • 申请人地址： 日本东京
  • 专利权人： 富士胶片株式会社
  • 当前专利权人： 富士胶片株式会社
  • 当前专利权人地址： 日本东京
  • 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
  • 代理商 蔡胜利
  • 优先权： 100695/2006 2006.03.31 JP
  • 国际申请： PCT/JP2007/056509 2007.03.20
  • 国际公布： WO2007/116774 EN 2007.10.18
  • 进入国家日期： 2008-01-25
  • 主分类号： C25D7/06
  • IPC分类号： C25D7/06 ;  B08B3/04
清洗装置及镀膜料片制造装置
摘要：
本发明涉及一种清洗装置，其设置有清洗液容池和将清洗液供应给清洗液容池的部件。在电镀液处，使料片的导电面与阴极辊接触，并且在导电面形成镀膜。所述清洗装置布置在电镀液的下游侧。并且，所述清洗装置对将料片通过空中朝后续阶段输送的辊进行清洗。所述辊的下部浸渍在清洗液容池的清洗液中。
摘要（英）：

A washing apparatus provided with a washing liquid-holding reservoir and the component which supplies washing liquid to the washing liquid-holding reservoir. At an electroplate solution, a conductive surface of a web is caused to touch against a cathode roller, and a plating film is formed at the conductive surface. The washing apparatus is disposed at a downstream side of the electroplate solution. The washing apparatus washes a roller which conveys the web through midair toward a subsequent stage. A lower portion of the roller is dipped in the washing liquid at the washing liquid-holding reservoir.

公开/授权文献
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