发明授权
CN101358371B 单一结构铁氰化物薄膜单极脉冲电沉积的制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 单一结构铁氰化物薄膜单极脉冲电沉积的制备方法
- 专利标题(英): Method for preparing single structure ferricyanide film using single-stage pulse electrodeposition
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申请号: CN200810079438.8申请日: 2008-09-20
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公开(公告)号: CN101358371B公开(公告)日: 2010-12-08
- 发明人: 郝晓刚 , 马旭莉 , 王忠德 , 张忠林 , 李永国 , 刘世斌 , 孙彦平
- 申请人: 太原理工大学
- 申请人地址: 山西省太原市迎泽西大街79号
- 专利权人: 太原理工大学
- 当前专利权人: 太原理工大学
- 当前专利权人地址: 山西省太原市迎泽西大街79号
- 代理机构: 山西太原科卫专利事务所
- 代理商 戎文华
- 主分类号: C25D9/08
- IPC分类号: C25D9/08 ; C25D5/18 ; H01L21/36
摘要:
本发明公开了一种单一结构铁氰化物薄膜单极脉冲电沉积的制备方法,该方法采用单极脉冲电沉积方法在导电基体表面制备半导体金属铁氰化物薄膜,即施加一定时间的脉冲沉积电压随之控制截断时间内电流为零来实现单极脉冲,在含铁氰化钾、过渡金属盐及支持电解质的溶液中,通过调节脉冲电压、脉冲频率和脉冲通断时间(占空)比等参数分别制得“可溶性”或“不溶性”单一结构的无机半导体金属铁氰化物薄膜。本发明制备方法简单,可控性强,制得单一结构金属铁氰化物薄膜具有优良的选择性和灵敏性,是制备灵敏传感器以及电控离子分离技术的优选材料。
公开/授权文献
- CN101358371A 单一结构铁氰化物薄膜单极脉冲电沉积的制备方法 公开/授权日:2009-02-04