本发明的课题是实现可在曝光处理途中进行聚焦调整，且无须追加聚焦调整专用的照明单元或显像单元，就可以在短时间内调整聚焦。在将形成于掩模(M)的图案投影在带状工件(W)、并进行曝光的带状工件的曝光装置中，在掩模(M)的对准标记(MAM)的内侧形成投影透镜用聚焦调整图案(FP)。此外，在工件台(10)的贯通孔或缺口(10a)上配置光透过部件(10b)，而形成对准显微镜用聚焦调整图案(AP)。由对准显微镜(12)检测掩模与带状工件的对准标记，并进行掩模(M)与带状工件(W)的对位，接着，通过对准显微镜(12)，检测投影透镜用聚焦调整图案(FP)与上述对准显微镜用聚焦调整图案(AP)并进行聚焦调整。