发明授权
- 专利标题: DDR型沸石膜的制造方法
- 专利标题(英): Process for producing ddr type zeolite membrane
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申请号: CN200780008881.X申请日: 2007-02-15
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公开(公告)号: CN101400605B公开(公告)日: 2011-08-10
- 发明人: 谷岛健二 , 中山邦雄
- 申请人: 日本碍子株式会社
- 申请人地址: 日本爱知县
- 专利权人: 日本碍子株式会社
- 当前专利权人: 日本碍子株式会社
- 当前专利权人地址: 日本爱知县
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 钟晶
- 优先权: 069366/2006 2006.03.14 JP
- 国际申请: PCT/JP2007/052785 2007.02.15
- 国际公布: WO2007/105407 JA 2007.09.20
- 进入国家日期: 2008-09-12
- 主分类号: C01B39/04
- IPC分类号: C01B39/04 ; B01D69/04 ; B01D69/06 ; B01D69/12 ; B01D71/02
摘要:
一种DDR型沸石膜的制造方法,其为将多孔基体浸渍于包含了1-金刚烷胺、二氧化硅和水的原料溶液中,在存在DDR型沸石晶种(晶种)的情况下,水热合成DDR型沸石,由此在多孔基材表面形成DDR型沸石膜的方法,其中,1-金刚烷胺和二氧化硅的含有比例(1-金刚烷胺/二氧化硅)为0.002至0.4摩尔比,而水和二氧化硅的含有比例(水/二氧化硅)为10至500摩尔比,晶种的平均粒径为300nm以下。本发明提供了一种DDR型沸石膜的制造方法,其能够稳定地制造膜厚均匀、薄且气体透过量高的DDR型沸石膜。
公开/授权文献
- CN101400605A DDR型沸石膜的制造方法 公开/授权日:2009-04-01