DDR型沸石膜的制造方法
摘要:
一种DDR型沸石膜的制造方法,其为将多孔基体浸渍于包含了1-金刚烷胺、二氧化硅和水的原料溶液中,在存在DDR型沸石晶种(晶种)的情况下,水热合成DDR型沸石,由此在多孔基材表面形成DDR型沸石膜的方法,其中,1-金刚烷胺和二氧化硅的含有比例(1-金刚烷胺/二氧化硅)为0.002至0.4摩尔比,而水和二氧化硅的含有比例(水/二氧化硅)为10至500摩尔比,晶种的平均粒径为300nm以下。本发明提供了一种DDR型沸石膜的制造方法,其能够稳定地制造膜厚均匀、薄且气体透过量高的DDR型沸石膜。
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