- 专利标题： 光致抗蚀剂剥离用组合物和剥离方法以及显示装置的制法
- 专利标题（英）： Combination for tripping photoresist, tripping method and making method of display device
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申请号： CN200810174803.3申请日： 2008-10-31
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公开(公告)号： CN101424888B公开(公告)日： 2012-10-31
- 发明人: 洪瑄英 , 朴弘植 , 郑锺铉 , 金俸均 , 李智鲜 , 李炳珍 , 金柄郁 , 尹锡壹 , 金圣培 , 辛成健 , 许舜范
- 申请人： 株式会社东进世美肯
- 申请人地址： 韩国仁川市
- 专利权人： 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人： 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人地址： 韩国仁川市
- 代理机构： 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 丁香兰
- 优先权： 10-2007-0111177 2007.11.01 KR
- 主分类号： G03F7/42
- IPC分类号： G03F7/42 ; H01L21/84
摘要：
本发明提供光致抗蚀剂剥离用组合物、使用该组合物的光致抗蚀剂剥离方法和显示装置的制造方法，该光致抗蚀剂剥离用组合物能够再次使用而剥离性能没有实质性降低并且金属图案没有损伤，从而能够减少照相蚀刻工序的成本。本发明中的光致抗蚀剂剥离用组合物含有80重量％～98.5重量％砜系化合物、1重量％～10重量％内酯系化合物以及0.1重量％～5重量％烷基磺酸。
公开/授权文献
- CN101424888A 光致抗蚀剂剥离用组合物和剥离方法以及显示装置的制法 公开/授权日：2009-05-06
IPC分类:
