发明授权
- 专利标题: 电解电容的制造方法以及电解电容
- 专利标题(英): Method for manufacturing electrolytic capacitor and electrolytic capacitor
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申请号: CN200810149971.7申请日: 2008-10-24
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公开(公告)号: CN101425375B公开(公告)日: 2012-05-30
- 发明人: 鹿熊健二 , 细木雅和 , 竹谷丰 , 山下纯一 , 奥田裕之 , 石原宏三
- 申请人: 三洋电机株式会社 , 太阳电子工业株式会社
- 申请人地址: 日本国大阪府
- 专利权人: 三洋电机株式会社,太阳电子工业株式会社
- 当前专利权人: 三洋电机株式会社,太阳电子工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本国大阪府
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 李贵亮
- 优先权: 2007-282195 2007.10.30 JP
- 主分类号: H01G9/00
- IPC分类号: H01G9/00 ; H01G9/04 ; H01G9/14
摘要:
本发明提供一种即使在施加过电压时也不容易发生短路、具有高安全性的电解电容。本发明涉及一种电解电容的制造方法,包括制作具有阳极箔和阴极箔的电极箔的电容元件;通过在所述电容元件上浸渍将导电性固体的微粒或其凝集体分散在分散溶剂中的分散液,在所述电容元件内形成具有导电性固体的微粒或其凝集体的导电性固体层;使不含有支持盐的溶剂浸渍形成了所述导电性固体层的电容元件。
公开/授权文献
- CN101425375A 电解电容的制造方法以及电解电容 公开/授权日:2009-05-06