- 专利标题: 提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置
- 专利标题(英): Reflecting apparatus fir improving light utilization ratio and lighting intensity and reducing irradiation area
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申请号: CN200710177986.X申请日: 2007-11-23
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公开(公告)号: CN101440931B公开(公告)日: 2010-11-10
- 发明人: 胡镔 , 邓蓉 , 范小礼 , 苏必达 , 王景峰 , 赵康
- 申请人: 中国航天科工集团第二研究院二〇七所 , 北京美联华新测控技术有限公司
- 申请人地址: 北京市石景山依翠园17号1808室
- 专利权人: 中国航天科工集团第二研究院二〇七所,北京美联华新测控技术有限公司
- 当前专利权人: 中国航天科工集团第二研究院二〇七所,北京美联华新测控技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市石景山依翠园17号1808室
- 代理机构: 核工业专利中心
- 代理商 高尚梅
- 主分类号: F21V7/09
- IPC分类号: F21V7/09
摘要:
本发明涉及一种反光装置,特别是一种提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置,包括:抛物面反光镜、设于抛物面反光镜焦点上的氙灯光源,其特征在于:所述抛物面反光镜的镜口平面上扣设一中心设有透光孔的球面反光镜,球面反光镜的球心与抛物面反光镜的焦点重合。本发明光利用率高,能将99%以上的氙灯所发光变成平行光由透光孔射出。由透光孔射出的平行光强度高,照射距离远。
公开/授权文献
- CN101440931A 提高光利用率和光强减小照射面积的反光装置 公开/授权日:2009-05-27