发明授权
- 专利标题: 光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置
- 专利标题(英): Polarized light source apparatus based on liquid crystal in photolithography lens imaging system
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申请号: CN200710094256.3申请日: 2007-11-22
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公开(公告)号: CN101441417B公开(公告)日: 2010-09-08
- 发明人: 陈福成
- 申请人: 上海华虹NEC电子有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区川桥路1188号
- 专利权人: 上海华虹NEC电子有限公司
- 当前专利权人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区川桥路1188号
- 代理机构: 上海浦一知识产权代理有限公司
- 代理商 周赤
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G02F1/133
摘要:
本发明公开了一种光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置,通过液晶来控制光刻成像系统光路中偏振光的偏振方向,避免了需在传统光刻透镜成像系统中的光路中机械地插入偏振片,从而提高了对偏振方向细微变化的分辨度;而且,本发明所述偏振光源装置可简单有效地控制偏振光方向,且便于切换相互垂直的偏振光和非偏振光。
公开/授权文献
- CN101441417A 光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置 公开/授权日:2009-05-27
IPC分类: