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发明公开
CN101454726A 用于电子照相印花法的涂覆有马来酸共聚物的基材 无效 - 撤回

  • 专利标题： 用于电子照相印花法的涂覆有马来酸共聚物的基材
  • 专利标题（英）： Substrates coated with maleic acid for electrophotographic printing method
  • 申请号： CN200780019129.5
    申请日： 2007-05-16
  • 公开(公告)号： CN101454726A
    公开(公告)日： 2009-06-10
  • 发明人: H·施泰因 , R·埃特尔 , H·P·贝尔
  • 申请人： 巴斯夫欧洲公司
  • 申请人地址： 德国路德维希港
  • 专利权人： 巴斯夫欧洲公司
  • 当前专利权人： 巴斯夫欧洲公司
  • 当前专利权人地址： 德国路德维希港
  • 代理机构： 北京市中咨律师事务所
  • 代理商 刘金辉; 黄革生
  • 优先权： 06114477.0 2006.05.24 EP
  • 国际申请： PCT/EP2007/054786 2007.05.16
  • 国际公布： WO2007/135071 DE 2007.11.29
  • 进入国家日期： 2008-11-24
  • 主分类号： G03G7/00
  • IPC分类号： G03G7/00
用于电子照相印花法的涂覆有马来酸共聚物的基材
摘要：
本发明涉及一种在基材上印花的方法，其特征在于使用一种组合物预处理所述基材，该组合物含有由烯键式不饱和化合物(单体)的自由基聚合获得的聚合物(以下简称为聚合物)。根据本发明，至少1重量％的单体为具有两个羧基(二羧酸)或二羧酸酐基团的单体(以下简称为酸酐单体)。
摘要（英）：

A process for printing on substrates, wherein the substrates are pretreated with a composition which comprises a polymer obtainable by free radical polymerization of ethylenically unsaturated compounds (monomers) (referred to below as polymer for short), and at least 1% by weight of the monomers are monomers having two carboxyl groups (dicarboxylic acid) or a dicarboxylic anhydride group (summarized below as anhydride monomer for short).

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