Invention Grant
- Patent Title: 投影装置
- Patent Title (English): Projection device
-
Application No.: CN200810001950.0Application Date: 2008-01-04
-
Publication No.: CN101477295BPublication Date: 2010-10-06
- Inventor: 王俊勋
- Applicant: 中强光电股份有限公司
- Applicant Address: 中国台湾新竹科学工业园区
- Assignee: 中强光电股份有限公司
- Current Assignee: 中强光电股份有限公司
- Current Assignee Address: 中国台湾新竹科学工业园区
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 王英
- Main IPC: G03B21/00
- IPC: G03B21/00 ; G03B21/14 ; G02B5/02 ; H04N9/31
Abstract:
一种投影装置,包括第一激光光源,提供具有高相干性的第一光束;第二激光光源,提供具有高相干性的第二光束;第三激光光源,提供具有高相干性的第三光束;合光元件,包括第一表面,其中,所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述合光元件,并在所述合光元件混成混成光束;扩散片,设在所述合光元件的所述第一表面上,供所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射;以及致动元件,连接所述合光元件,以致动所述合光元件,用于改变所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述扩散片的位置。
Public/Granted literature
- CN101477295A 投影装置 Public/Granted day:2009-07-08
Information query