MOCVD设备内石墨基座的清洗方法
摘要:
本发明公开了一种MOCVD设备内石墨基座的清洗方法,该方法用来清洗MOCVD设备的石墨基座,通过该方法可以彻底的将石墨基座清洗干净,特别是石墨基座表面的小坑内的附着物,而不破坏石墨基座的结构,从而起到延长石墨基座的使用寿命和提高MOCVD设备产能的作用。该方法包括以下步骤:煮酸:将石墨基座放入磷酸中煮,至石墨基座表面上的附着物被去除干净后取出,其中,所述煮酸步骤还包括刷去石墨基座表面的附着物;冲水:用热去离子水清洗煮好的石墨基座,去除石墨基座上的酸性物质;干燥:干燥石墨基座,至石墨基座上无水份,其中,所述干燥步骤包括用烘烤方式干燥石墨基座。本发明采用的是一种湿法处理的方式。
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