发明授权
CN101510013B 复合相位掩模板
失效 - 权利终止
- 专利标题: 复合相位掩模板
- 专利标题(英): Composite phase mask plate
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申请号: CN200910097234.1申请日: 2009-03-30
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公开(公告)号: CN101510013B公开(公告)日: 2010-06-23
- 发明人: 李奇 , 赵惠 , 冯华君 , 徐之海
- 申请人: 浙江大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市西湖区浙大路38号
- 专利权人: 浙江大学
- 当前专利权人: 浙江大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市西湖区浙大路38号
- 代理机构: 杭州天勤知识产权代理有限公司
- 代理商 胡红娟
- 主分类号: G02B27/46
- IPC分类号: G02B27/46 ; H04N5/225
摘要:
本发明公开了一种复合相位掩模板,复合相位掩模板的相位分布函数包含正弦型和指数型两种函数,相位分布函数θ(x,y)的函数式如下:式中,α·x·[exp(βx2+exp(βy2)]为指数型函数,为正弦型函数;其中,α表示指数型函数和正弦型函数的幅值,β表示指数型函数的调制因子,ω表示正弦型函数的角频率,x,y为孔径平面归一化的空间坐标。本发明还公开了一种采用正弦型和指数型两种函数复合的复合相位掩模板的成像系统,该成像系统的Fisher信息的数值较小,对离焦不敏感,对离焦量有较好的抑制作用,具有较好的景深扩展能力。
公开/授权文献
- CN101510013A 复合相位掩模板 公开/授权日:2009-08-19