发明公开
CN101538725A 一种利用离子液体电沉积技术制备Tb-Co合金层的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种利用离子液体电沉积技术制备Tb-Co合金层的方法
- 专利标题(英): Method for preparing Tb-Co alloy layer by utilizing ionic liquid electrodeposition technology
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申请号: CN200910071687.7申请日: 2009-03-31
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公开(公告)号: CN101538725A公开(公告)日: 2009-09-23
- 发明人: 安茂忠 , 苏彩娜 , 杨培霞 , 徐加民
- 申请人: 哈尔滨工业大学
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 代理机构: 哈尔滨市松花江专利商标事务所
- 代理商 荣玲
- 主分类号: C25D3/56
- IPC分类号: C25D3/56
摘要:
一种利用离子液体电沉积技术制备Tb-Co合金层的方法,它涉及一种制备Tb-Co合金层的方法。它解决了现有技术在制备Tb-Co合金层时存在制备工艺及设备复杂、成本高且沉积层表面不均一的问题。制备方法:一、将1-甲基-3-丁基咪唑四氟硼酸盐、无水氟硼酸钴和无水氟硼酸铽混合,制备离子液体电解液;二、电沉积;三、将试件经过乙醇和蒸馏水冲洗后干燥,即得到Tb-Co合金层。本发明利用离子液体电沉积的方法合成了光滑平整、均一的Tb-Co合金层。本发明工艺简单且设备简单,成本低廉。
公开/授权文献
- CN101538725B 一种利用离子液体电沉积技术制备Tb-Co合金层的方法 公开/授权日:2010-09-22