发明授权
CN101542008B 蒸镀装置及使用蒸镀装置的膜的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 蒸镀装置及使用蒸镀装置的膜的制造方法
- 专利标题(英): Deposition apparatus and method for manufacturing film by using deposition apparatus
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申请号: CN200880000483.8申请日: 2008-03-10
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公开(公告)号: CN101542008B公开(公告)日: 2011-08-24
- 发明人: 冈崎祯之 , 本田和义 , 柳智文 , 今宿升一
- 申请人: 松下电器产业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 松下电器产业株式会社
- 当前专利权人: 松下电器产业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 段承恩; 田欣
- 优先权: 059442/2007 2007.03.09 JP; 103621/2007 2007.04.11 JP; 103622/2007 2007.04.11 JP; 273922/2007 2007.10.22 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/000519 2008.03.10
- 国际公布: WO2008/111306 JA 2008.09.18
- 进入国家日期: 2009-01-22
- 主分类号: C23C14/24
- IPC分类号: C23C14/24
摘要:
本发明提供一种蒸镀装置,是通过在腔室(2)内以卷轴到卷轴的方式使片状的基板(4)移动,由此在基板(4)上连续形成蒸镀膜的蒸镀装置(100),具有:使蒸镀原料蒸发的蒸发源(9);包括卷绕保持基板(4)的第1及第2卷轴(3、8)和对基板(4)进行引导的引导部的输送部;配置在上述能够蒸镀的区域的、形成来自蒸发源(9)的蒸镀原料不能到达的遮蔽区域的遮蔽部,并且,蒸镀区域(60a~60d)包括按照使基板(4)的被蒸镀原料照射的面成为平面的方式输送基板(4)的平面输送区域,在除了遮蔽区域之外的能够蒸镀的区域中,按照使蒸镀材料不从基板(4)的法线方向入射到基板(4)的方式相对于蒸发源(9)配置输送部。
公开/授权文献
- CN101542008A 蒸镀装置及使用蒸镀装置的膜的制造方法 公开/授权日:2009-09-23
IPC分类: