本发明公开了一种同时地将两个图案形成装置曝光到衬底上的光刻设备和器件制造方法。在实施例中，光刻设备包括用于接收和调节脉冲辐射束的多个照射系统；配置在脉冲辐射束源和照射系统之间用于交替地将辐射束脉冲引导到各个照射系统的束引导装置；用于保持多个图案形成装置的支撑台，每个图案形成装置能够将图案在其横截面上赋予到各自经调节的辐射束上以形成多个图案化的辐射束；和构造用于将多个图案化的辐射束同时地投影到衬底的目标部分上的投影系统。在实施例中，衬底用相变材料覆盖。