发明授权
- 专利标题: 真空容器和等离子体处理装置
- 专利标题(英): Vacuum container and plasma processing apparatus
-
申请号: CN200910130844.7申请日: 2009-04-15
-
公开(公告)号: CN101562126B公开(公告)日: 2011-02-09
- 发明人: 笠原稔大
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳
- 优先权: 2008-105223 2008.04.15 JP; 2008-303717 2008.11.28 JP
- 主分类号: H01L21/00
- IPC分类号: H01L21/00 ; H01L21/20 ; H01L21/31 ; H01L21/3065 ; H01L21/311 ; C23F4/00
摘要:
本发明提供一种真空容器,其能够维持作为真空容器的充分机械强度,同时能够实现轻量化,并能够极力减轻其材料费和加工费。等离子体处理容器(100a)具有成形为方筒形的下部容器(1)和与该下部容器(1)组合的上部容器(10)。上部容器(10)具有框体(21)、经由绝缘部件(23)连接在该框体(21)上的喷淋头(25)、配设在这些框体(21)以及喷淋头(25)的上方的梁结构体(27),构成喷淋头(25)的底板(31)露出在大气压的外部空间。
公开/授权文献
- CN101562126A 真空容器和等离子体处理装置 公开/授权日:2009-10-21
IPC分类: