Invention Grant
- Patent Title: 位置控制系统、光刻设备及控制可移动物体的位置的方法
- Patent Title (English): Method for controlling position of movable object, positioning system, and lithographic apparatus
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Application No.: CN200910137005.8Application Date: 2009-04-27
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Publication No.: CN101566854BPublication Date: 2011-09-21
- Inventor: 米歇尔·约翰内斯·沃奥德东克 , 马克·康斯坦丁·约翰内斯·拜根
- Applicant: ASML荷兰有限公司
- Applicant Address: 荷兰维德霍温
- Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰维德霍温
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 王新华
- Priority: 61/071,389 2008.04.25 US
- Main IPC: G05D3/12
- IPC: G05D3/12 ; G03F7/00 ; G03F7/20
Abstract:
本发明提供一种构造成控制可移动物体的位置的位置控制系统,包括:构造成确定位于可移动物体上的传感器或传感器目标的位置的位置测量系统,构造成通过基于被测量位置对比设定点位置和位置反馈信号来提供误差信号的比较器,用以基于所述误差信号提供控制信号的控制器,用以基于有关所需位置的第一信号提供前馈信号的前馈装置,和构造成基于所述控制信号和所述前馈信号作用在所述可移动物体上的至少一个致动器,其中位置控制系统还包括提供柔量补偿信号的柔量补偿器,其中所述柔量补偿信号从位置测量系统的被测量位置中被减去以获得所述反馈位置信号。本发明还公开了一种光刻设备和一种控制可移动物体的位置的方法。
Public/Granted literature
- CN101566854A 位置控制系统、光刻设备及控制可移动物体的位置的方法 Public/Granted day:2009-10-28
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