Invention Grant
- Patent Title: 成膜装置和成膜方法
- Patent Title (English): Film forming apparatus and method of forming film
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Application No.: CN200780047845.4Application Date: 2007-11-29
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Publication No.: CN101568993BPublication Date: 2010-12-22
- Inventor: 森崎英介 , 小林洋克 , 吉川润 , 泽田郁夫 , 木本恒畅 , 川本典明 , 明田正俊
- Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 罗姆股份有限公司
- Applicant Address: 日本国东京都
- Assignee: 东京毅力科创株式会社,罗姆股份有限公司
- Current Assignee: 东京毅力科创株式会社,罗姆股份有限公司
- Current Assignee Address: 日本国东京都
- Agency: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- Agent 龙淳
- Priority: 348502/2006 2006.12.25 JP
- International Application: PCT/JP2007/073074 2007.11.29
- International Announcement: WO2008/078503 JA 2008.07.03
- Date entered country: 2009-06-22
- Main IPC: H01L21/205
- IPC: H01L21/205 ; C23C16/42 ; C23C16/46
Abstract:
本发明提供一种成膜装置和成膜方法,该成膜装置包括:内部被保持为减压空间的处理容器;由以碳为主要成分的材料构成、用于在处理容器内保持基板的基板保持部;配置在处理容器的外侧、用于感应加热基板保持部的线圈;和以覆盖基板保持部、且从处理容器离开的方式配置的绝热部件。上述的减压空间被分离为用于供给成膜气体的成膜气体供给空间,和在基板保持部与处理容器之间被划分形成的绝热空间,绝热空间被供给冷却介质。
Public/Granted literature
- CN101568993A 成膜装置和成膜方法 Public/Granted day:2009-10-28
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