发明授权
- 专利标题: 负极基材
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申请号: CN200780045668.6申请日: 2007-12-11
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公开(公告)号: CN101569036B公开(公告)日: 2011-12-28
- 发明人: 三隅浩一 , 齐藤宏二 , 渡边充广 , 本间英夫
- 申请人: 东京应化工业株式会社 , 株式会社关东学院大学表面工学研究所
- 申请人地址: 日本国神奈川县
- 专利权人: 东京应化工业株式会社,株式会社关东学院大学表面工学研究所
- 当前专利权人: 东京应化工业株式会社,关东学院大学公司
- 当前专利权人地址: 日本国神奈川县
- 代理机构: 深圳新创友知识产权代理有限公司
- 代理商 江耀纯
- 优先权: 339254/2006 2006.12.15 JP; 339253/2006 2006.12.15 JP; 339252/2006 2006.12.15 JP; 339255/2006 2006.12.15 JP; 094430/2007 2007.03.30 JP
- 国际申请: PCT/JP2007/073885 2007.12.11
- 国际公布: WO2008/072638 JA 2008.06.19
- 进入国家日期: 2009-06-10
- 主分类号: H01M4/66
- IPC分类号: H01M4/66 ; H01M4/64 ; G03F7/022 ; G03F7/032 ; G03F7/038 ; G03F7/039 ; G03F7/40
摘要:
本发明利用与以往技术不同的构成,能够实现一种具有高输出电压及高能量密度、且充放电循环特性优异的电池。本发明使用以下负极基材来作为用于锂离子二次电池的负极基材:特征在于在具备有机膜的支撑体上形成金属膜的负极基材;特征在于所述有机膜的表层由金属氧化物膜被覆的所述负极基材;特征在于在具备由包含有机成分及无机成分的复合膜形成材料所形成的复合膜的支撑体上,形成金属膜的负极基材;或者特征在于在形成了光阻图案的支撑体上,形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜,并在除去了所述光阻图案的支撑体上形成金属膜的负极基材。
公开/授权文献
- CN101569036A 负极基材 公开/授权日:2009-10-28