发明授权
- 专利标题: X射线光栅相衬成像系统及方法
- 专利标题(英): System and method for X-ray optical grating contrast imaging
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申请号: CN200810005766.3申请日: 2008-02-04
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公开(公告)号: CN101576515B公开(公告)日: 2012-07-04
- 发明人: 康克军 , 黄志峰 , 张丽 , 陈志强 , 李元景 , 刘以农 , 赵自然 , 刑宇翔
- 申请人: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
- 申请人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 专利权人: 同方威视技术股份有限公司,清华大学
- 当前专利权人: 同方威视技术股份有限公司,清华大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 谭祐祥
- 主分类号: G01N23/083
- IPC分类号: G01N23/083
摘要:
一种X射线光栅相衬成像系统及方法,包括:X射线发射装置,向被检测物体发射X射线束;第一和第二吸收光栅,位于X射线束发射方向上,被检测物体折射的X射线经由该第一和/或第二吸收光栅形成强度变化的X射线信号;检测单元,用于接收强度变化的X射线,并转换为电信号;以及数据处理单元,处理并提取该电信号中折射角信息,并利用折射角信息计算出像素信息;成像单元,用于构建物体的图像。另外,还可利用一旋转结构,旋转物体实现CT成像模式,获得多个投影方向的折射角及相应图像,并使用CT重建算法计算出该被检测物体的折射率断层图像。本发明使用通常的X光机,以及十微米量级以上周期的光栅实现近分米量级视场的相衬成像。
公开/授权文献
- CN101576515A X射线光栅相衬成像系统及方法 公开/授权日:2009-11-11