- 专利标题: 采用涂有紫外线辐射反应材料的结构进行印刷的方法
- 专利标题(英): Printing method using a structure coated with ultraviolet radiation responsive material
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申请号: CN200910142306.X申请日: 2009-05-27
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公开(公告)号: CN101598896B公开(公告)日: 2012-07-04
- 发明人: 袁铭辉 , 陈景朗 , 杨诚
- 申请人: 香港科技大学
- 申请人地址: 中国香港九龙清水湾
- 专利权人: 香港科技大学
- 当前专利权人: 香港科技大学
- 当前专利权人地址: 中国香港九龙清水湾
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 丁业平; 张天舒
- 优先权: 61/071,923 2008.05.27 US
- 主分类号: G03F7/00
- IPC分类号: G03F7/00 ; G03F7/004 ; H05K3/12
摘要:
本发明涉及采用涂有紫外线辐射反应材料的结构进行印刷的方法。通过将紫外线辐射反应材料施加到印刷用的图案化的转移表面上,使得所述图案化的转移表面的润湿性和印刷转移性得到增强。在将印刷材料转移到基板的过程中,紫外线激发所述紫外线辐射反应材料。该技术能够增加印刷精度,并且可用于将印刷材料转移到基板上,以在印刷基板上建立印刷电路部件(如电路走线)和印刷电路元件。在一个特定的构造中,紫外线辐射反应材料可以由自由基引发剂或偶氮苯材料组成。
公开/授权文献
- CN101598896A 采用涂有紫外线辐射反应材料的结构进行印刷的方法 公开/授权日:2009-12-09