发明授权
CN101616627B 用于评估样本中的光学深度的光学设备
失效 - 权利终止
- 专利标题: 用于评估样本中的光学深度的光学设备
- 专利标题(英): An optical device for assessing optical depth in a sample
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申请号: CN200880005548.8申请日: 2008-02-18
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公开(公告)号: CN101616627B公开(公告)日: 2011-08-03
- 发明人: B·H·W·亨德里克斯 , A·T·M·范戈夫 , H·周
- 申请人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 申请人地址: 荷兰艾恩德霍芬
- 专利权人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 当前专利权人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰艾恩德霍芬
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 刘鹏; 刘红
- 优先权: 60/890,695 2007.02.20 US; 60/908,422 2007.03.28 US
- 国际申请: PCT/IB2008/050575 2008.02.18
- 国际公布: WO2008/102294 EN 2008.08.28
- 进入国家日期: 2009-08-20
- 主分类号: A61B5/00
- IPC分类号: A61B5/00
摘要:
本发明涉及用于评估被来自辐射源(10)的偏振辐射照射的样本(100)中的光学深度(D)的光学设备。第一和第二辐射波导的端部(30a’,30b’)被设置用于捕获从样本反射的辐射(25a,25b)。检测器(40)测量反射的辐射(25)的第一偏振(P_1)和第二偏振(P_2),以及分别在第一(30a)和第二(30b)辐射波导中的反射辐射(25a,25b)的第一和第二强度(I_1,I_2)。随后,处理装置(60)计算第一(f)和第二(g)光谱函数,这两个光谱函数(f,g)表示样本中的单散射事件。该处理装置(60)进一步被设置为计算第一(f)与第二(g)光谱函数之间的相关性(C)度量,以便评估所述单散射事件是否来源于样本内基本上相同的光学深度(D)。因此,第一和第二光谱函数之间的因果关系可以用于评估产生这两个光谱函数的所述单散射事件是否来自样本内的基本上相同的光学深度(D)。本发明特别有利于光学探查病人的上皮层。
公开/授权文献
- CN101616627A 用于评估样本中的光学深度的光学设备 公开/授权日:2009-12-30