Invention Grant
- Patent Title: 正工作辐射敏感性组合物和元件
- Patent Title (English): Positive-working radiation-sensitive compositions and elements
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Application No.: CN200880006298.XApplication Date: 2008-02-13
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Publication No.: CN101622130BPublication Date: 2011-08-03
- Inventor: M·勒瓦农
- Applicant: 伊斯曼柯达公司
- Applicant Address: 美国纽约州
- Assignee: 伊斯曼柯达公司
- Current Assignee: 伊斯曼柯达公司
- Current Assignee Address: 美国纽约州
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 赵苏林; 韦欣华
- Priority: 11/679,962 2007.02.28 US
- International Application: PCT/US2008/001878 2008.02.13
- International Announcement: WO2008/106010 EN 2008.09.04
- Date entered country: 2009-08-27
- Main IPC: B41C1/10
- IPC: B41C1/10 ; B41M5/36 ; G03F7/004
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Abstract:
辐射敏感性组合物可以用来制备例如可用于制造平版印刷版的可成像元件。该组合物包括含水碱性溶剂可溶性酚醛树脂或聚(乙烯醇缩醛)作为聚合物粘结剂。该组合物还包括具有脲烷结构部分和氟化亚烷氧基结构部分的氟化合物以提供改进的涂覆和摩擦性能,尤其是当与衬纸堆叠时。该辐射敏感性组合物可以涂覆为可成像层,该可成像层还包括例如,对红外辐射敏感的辐射吸收性化合物。
Public/Granted literature
- CN101622130A 正工作辐射敏感性组合物和元件 Public/Granted day:2010-01-06
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