无缝镭射膜及其制备方法
摘要:
本发明公开了一种无缝镭射膜及其制备方法,其特征在于包括三层结构,由下至上的顺序依次为PET膜层、树脂涂层和铝层,其制备方法流程为PET膜层成型、涂布、模压、镀铝、复纸和印刷,在完成第一次模压后再进行一次模压,并在压辊中添加可注入水的管道以控制温度,通过上述方法制备的镭射膜不出现周期性的版缝,减少了后续生产的损耗,提高了生产效率。
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