一种基板处理设备，包括承载平台以及供液装置。其中，承载平台是用以承载待进行涂布的基板，供液装置则适于相对基板而沿涂布方向移动，用以提供欲涂布在基板上的液体，其包括至少一个用以输送上述液体的输液管与喷洒单元。喷洒单元具有连通此输液管的储液槽，用以暂存欲涂布在基板上的液体。储液槽具有一排第一喷嘴孔与至少一排第二喷嘴孔，其中第一喷嘴孔与第二喷嘴孔大致上相互平行地排列，且第一喷嘴孔在涂布方向上是位于第二喷嘴孔的前方，而液体通过第一喷嘴孔的总流量系大于通过第二喷嘴孔的总流量。此外，本发明亦提出一种基板处理方法。