发明公开
- 专利标题: 电学互连结构及其形成方法
- 专利标题(英): Electrical interconnect structure and method of forming the same
-
申请号: CN200880011580.7申请日: 2008-03-26
-
公开(公告)号: CN101652847A公开(公告)日: 2010-02-17
- 发明人: S·L·布奇瓦尔特 , B·K·福尔曼 , P·A·格鲁伯 , 罗载雄 , 史达元
- 申请人: 国际商业机器公司
- 申请人地址: 美国纽约
- 专利权人: 国际商业机器公司
- 当前专利权人: 超科技公司
- 当前专利权人地址: 美国纽约
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 秦晨
- 优先权: 11/733,840 2007.04.11 US
- 国际申请: PCT/EP2008/053527 2008.03.26
- 国际公布: WO2008/125440 EN 2008.10.23
- 进入国家日期: 2009-10-10
- 主分类号: H01L21/60
- IPC分类号: H01L21/60 ; H01L23/485 ; H01L21/56 ; H01L21/68
摘要:
一种电学结构及其形成方法。该电器结构包括包含第一导电衬垫的第一衬底,包含第二导电衬垫的第二衬底,以及将第一导电衬垫电学及机械地连接到第二导电衬垫的互连结构。该互连结构包含具有圆柱或球体形状的无焊料金属芯结构,第一焊料结构,以及第二焊料结构。第一焊料结构将无焊料金属芯结构的第一部分电学及机械地连接到第一导电衬垫。第二焊料结构将无焊料金属芯结构的第二部分电学及机械地连接到第二导电衬垫。
公开/授权文献
- CN101652847B 电学互连结构及其形成方法 公开/授权日:2011-11-02
IPC分类: